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反射光譜薄膜測(cè)厚儀
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MProbe RT薄膜測(cè)厚儀
參考價(jià)格：15-20萬(wàn)
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測(cè)量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對(duì)二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
該機(jī)大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測(cè)量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對(duì)二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
測(cè)量范圍: 1 nm -20um(UVVis)，1nm-150um(UVVisNIR)
波長(zhǎng)范圍: 200 nm -1000 nm(UVVis)
200nm-1700nm(UVVisNIR)
適用于實(shí)時(shí)在線測(cè)量，多層測(cè)量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(kù)(超過(guò)500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等；
藍(lán)寶石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率，波長(zhǎng)范圍(200-1700nm)：
系統(tǒng)性能參數(shù)：
| 精度 | <0.1nm or 0.01% |
| 準(zhǔn)確度 | <0.2% or 1 nm |
| 穩(wěn)定性 | <0.05nm or 0.03% |
| 光斑直徑 | 標(biāo)準(zhǔn)2mm, 可以小至3um |
| 樣品大小 | 大于1 mm |
測(cè)量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù)
界面友好強(qiáng)大: 一鍵式測(cè)量和分析。
實(shí)用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測(cè)量，動(dòng)態(tài)測(cè)量和產(chǎn)線批量處理。
技術(shù)參數(shù)：
| 測(cè)量范圍 | 1nm-50um 或1nm-150um |
| 精度 | <0.1nm or 0.01% |
| 準(zhǔn)確度 | <0.2% or 1 nm |
| 穩(wěn)定性 | <0.05nm or 0.03% |
| 波長(zhǎng)范圍 | 200-1000nm 或 200-1700nm |
| 光譜儀和檢測(cè)器 | F4光譜儀，3600像素CCD檢測(cè)器，16位深 |
| F3光譜儀，512像素InGaAs 檢測(cè)器 | |
| 光譜分辨率 | 2nm（UVVis），4nm（NIR） |
| 光源 | 20W鹵鎢燈（添加氙），色溫3100，壽命：2000小時(shí) |
（內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖）
我們樂(lè)意為您進(jìn)行免費(fèi)樣品測(cè)量，歡迎來(lái)電咨詢。
美國(guó)Semiconsoft中國(guó)總代理 上海全耀儀器設(shè)備有限公司
Email：[email protected]
上海全耀代理產(chǎn)品：膜厚測(cè)量?jī)x，薄膜測(cè)試儀，膜厚儀，厚度測(cè)量?jī)x以及MProbe MSP顯微薄膜測(cè)試儀等，歡迎廣大用戶前來(lái)訂購(gòu)。
上一個(gè)產(chǎn)品： MProbe UVVisSR薄膜測(cè)厚儀
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MProbe Vis薄膜測(cè)厚儀
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被MProbe Vis測(cè)厚儀測(cè)量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對(duì)二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)。 測(cè)量范圍: 15 nm -50um 波長(zhǎng)范圍: 400 nm -1100 nm MProbe Vis薄膜測(cè)厚儀適用于實(shí)時(shí)在線測(cè)量，多層測(cè)量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(kù)(超過(guò)500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測(cè)量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù) 界面友好強(qiáng)大: 一鍵式測(cè)量和分析。 MProbe Vis薄膜測(cè)厚儀實(shí)用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測(cè)量，動(dòng)態(tài)測(cè)量和產(chǎn)線批量處理。 （MProble NIR薄膜測(cè)厚儀系統(tǒng)示） 性能參數(shù)： 精度 <0.01nm or0.01% 準(zhǔn)確度 <0.2% or 1 nm 穩(wěn)定性 <0.02nm or 0.03% 光斑直徑 標(biāo)準(zhǔn)3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1，300nm二氧化硅薄膜的測(cè)量： 硅晶圓反射率，測(cè)量時(shí)間10ms： 案例2，測(cè)量500nm氮化鋁，測(cè)量參數(shù)：厚度和表面粗糙...
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MProbe UVVisSR薄膜測(cè)厚儀
該機(jī)大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測(cè)量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對(duì)二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 測(cè)量范圍: 1 nm -50um 波長(zhǎng)范圍: 200 nm -1000 nm MProbe UVVisSR薄膜測(cè)厚儀適用于實(shí)時(shí)在線測(cè)量，多層測(cè)量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(kù)(超過(guò)500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測(cè)量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù) 界面友好強(qiáng)大: 一鍵式測(cè)量和分析。 實(shí)用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測(cè)量，動(dòng)態(tài)測(cè)量和產(chǎn)線批量處理。 （MProble NIR薄膜測(cè)厚儀系統(tǒng)示 ） 系統(tǒng)性能參數(shù)： 精度 <0.01nm or 0.01% 準(zhǔn)確度 <0.2%or 1 nm 穩(wěn)定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直徑 標(biāo)準(zhǔn)3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1，73nm SiN氮化硅薄膜的測(cè)量 硅晶圓反射率，測(cè)量時(shí)間10ms 使用Tauc-Lorentz模型，測(cè)量SiN薄膜的n和k值 技術(shù)參數(shù)： 測(cè)量范圍 100nm-2...
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便攜式探頭
測(cè)量曲面樣品或樣品無(wú)法移動(dòng)時(shí)，需要用到特殊的探頭，這些探頭包裹一層柔性橡膠，可以直接放到樣品上面，用光纖將其與主機(jī)相連?；诓煌膽?yīng)用，有三個(gè)型號(hào)可選。 MP-FLVi：用于基底較薄且透光的薄膜，需要消除背面反射 MP-RP90：用于可接受2mm光斑直徑及不需要考慮背面反射的樣品 MP-RP45：可用45度測(cè)量厚度 MP-FLVis 包含可見(jiàn)光聚焦鏡頭，0.4mm光斑直徑 MP-RP90 2mm光斑直徑，光譜范圍較寬 MP-RP45 包含兩個(gè)石英準(zhǔn)直器，以45度角測(cè)量樣品 我們樂(lè)意為您進(jìn)行免費(fèi)樣品測(cè)量，歡迎來(lái)電咨詢。 美國(guó)Semiconsoft中國(guó)總代理 上海全耀儀器設(shè)備有限公司 全國(guó)咨詢熱線：400-992-5592 Email：[email protected] 上海全耀代理產(chǎn)品：膜厚測(cè)量?jī)x，薄膜測(cè)試儀，膜厚儀，厚度測(cè)量?jī)x以及MProbe MSP顯微薄膜測(cè)試儀等，歡迎廣大用戶前來(lái)訂購(gòu)。
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MProbe系列薄膜測(cè)厚儀
當(dāng)一束光入射到薄膜表面時(shí)，薄膜上表面和下表面的反射光會(huì)發(fā)生干涉，干涉的發(fā)生與薄膜厚度及光學(xué)常數(shù)等有關(guān)，反射光譜薄膜測(cè)厚儀就是基于此原理來(lái)測(cè)量薄膜厚度。 反射光譜干涉法是一種非接觸式、無(wú)損的、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù)。 測(cè)量范圍: 1 nm - 1 mm 波長(zhǎng)范圍: 200 nm -8000 nm 光斑尺寸:2mum -3 um 產(chǎn)品特點(diǎn)： a. 最高的測(cè)量精度：0.01nm或0.01% b. 準(zhǔn)確度：1nm或0.2% c. 穩(wěn)定性：0.02nm或0.02% d. 強(qiáng)大的軟件材料庫(kù)，包含500多種材料的光學(xué)常數(shù) e. 通過(guò)Modbus TCP或OPC協(xié)議，與其他設(shè)備聯(lián)用 適用于實(shí)時(shí)在線測(cè)量，多層測(cè)量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(kù)(超過(guò)500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測(cè)量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對(duì)二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 標(biāo)準(zhǔn)配置中包含： 1. 主機(jī)(光譜儀，光源，電線) 2. 反射光纖 3. 樣品臺(tái)及光纖適配器 4. TFCompanion軟件 5. 校準(zhǔn)套裝 6. 測(cè)試樣品，200nm...
